FZ Silicon Wafer Semiconductor

FZ Silicon Wafer Semiconductor

Beskrivelse FZ silisium wafer er en type høyrent silisium wafer som ofte brukes i halvlederindustrien. FZ står for Float Zone, som er en metode for å dyrke enkrystall silisium. Under FZ-prosessen blir en silisiumstang suspendert vertikalt i en høytemperaturovn, og...

Beskrivelse

 

Beskrivelse

FZ silisium wafer er en type høyrent silisium wafer som ofte brukes i halvlederindustrien. FZ står for Float Zone, som er en metode for å dyrke enkrystall silisium.

Under FZ-prosessen blir en silisiumstang suspendert vertikalt i en høytemperaturovn, og en smeltet sone skapes ved å varme opp en liten del av stangen. Den smeltede sonen beveges langs stangens lengde, og etter hvert som den avkjøles, stivner den til en enkelt krystall. Prosessen gjentas flere ganger til hele lengden av stangen er omdannet til en enkelt krystall.

FZ silisiumskiver har et veldig høyt renhetsnivå, med urenhetsnivåer vanligvis mindre enn én del per milliard. Denne renheten gjør dem ideelle for bruk i høyytelses elektroniske enheter, som mikroprosessorer, minnebrikker og solceller. FZ-wafere brukes også i vitenskapelig forskning og i produksjon av høyytelsessensorer og detektorer.

Spesifikasjon

Diameter 2"  3"  4"  5"  6"  8" 
Vekstmetode FZ
Orientering < 1-0-0 > , < 1-1-1 > 
Type/Dopant Intrinsic, N Type/Phos, P Type/Bor
Tykkelse (um) 279 380 525 625 675 725
Tykkelsestoleranse Standard ± 25um ±50um
Resistivitet (ohm-cm) 1000-20000, Maximum Capabilities>20000, og 1-5
Overflate ferdig P/E , P/P, E/E, G/G
TTV (um) Standard< 10 um
Bue/varp (um) Standard<40 um

FZ Silicon Wafer Semiconductor

 

 

 

 

 

 

Populære tags: fz silisium wafer halvleder

Du kommer kanskje også til å like

Handleposer